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CVD Equipment Corporation(NASDAQ:CVV), CVD 이큅먼트 스토니브룩 대학교와의 협력을 통해 고품질 단결정 SiC 잉곳 성장 기술을 시연
뉴욕주 센트럴 이슬립, 2026년 4월 21일 –( BUSINESS WIRE )–CVD Equipment Corporation(NASDAQ: CVV )은 오늘 스토니브룩대학교(SBU)에서 자사의 CVDE 물리적 증기 수송(PVT) 시스템을 이용하여 성장시킨 단결정 탄화규소(SiC) 잉곳의 성공적인 성장을 발표했으며, SBU는 이 잉곳의 특성을 분석하여 새로운 반도체 연구 센터인 ” onsemi 광대역 밴드갭 재료 연구 센터 “를 지원하고 있습니다.
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SBU에서 분석한 결과, 해당 SiC 잉곳은 다형체가 없고 결함 밀도가 낮은 4H 결정 구조를 갖는 것으로 확인되었습니다. 이러한 성과는 차세대 반도체 제조 및 고성능 소재에 의존하는 신흥 시장을 위한 장비 공급업체로서 CVDE의 입지를 강화합니다.
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CVD Equipment Corporation(NASDAQ:CVV) 주식소개 CVD 이큅먼트
CVD Equipment Corporation은 자회사와 함께 미국과 국제적으로 소재와 코팅을 개발하고 제조하는 장비를 설계, 개발, 제조 및 판매합니다. CVD Equipment, Stainless Design Concepts, CVD Materials의 세 부문을 통해 운영됩니다. CVD Equipment 부문은 FirstNano 브랜드로 화학 기상 증착, 물리적 기상 수송 및 열 공정 장비를 제공하며, 고전력 전자 제품, 가스터빈 제트 엔진용 항공 우주 첨단 소재, 배터리에 사용되는 나노소재, 반도체, LED, 탄소 나노튜브, 나노와이어, 태양 전지 및 기타 산업 및 연구 응용 분야와 같은 다양한 시장에 제공합니다. Stainless Design Concepts 부문은 가스 실린더 보관 캐비닛, 맞춤형 가스 및 화학 물질 공급 시스템, 가스 및 액체 밸브 매니폴드 상자, 반도체 제조 공정, 항공 우주, 태양 전지, LED, 탄소 나노튜브, 나노와이어 및 산업 응용 분야를 위한 가스 격리 상자를 포함한 초고순도 가스 및 화학 물질 공급 제어 시스템을 제공합니다. CVD 재료 부문은 MesoPlasma 인쇄 서비스 및 히터, 안테나, 센서로 구성된 제품과 같은 첨단 소재 및 코팅과 관련된 제품을 항공우주, 위성, 발전, 방위 및 기타 시장에 제공합니다.
주가전망
CVD Equipment Co. (NASDAQ:CVV)는 11월 12일 화요일에 분기별 수익 데이터를 발표했습니다. 이 산업 제품 회사는 분기에 대해 ($0.02) EPS를 보고했습니다. 이 산업 제품 회사는 분기 동안 $571만 달러를 벌었습니다. CVD Equipment는 17.10%의 마이너스 12개월 자본 수익률과 18.26%의 마이너스 순이익률을 기록했습니다.
