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CVD Equipment Corporation(NASDAQ:CVV), CVD 이큅먼트 스토니브룩 대학교와의 협력을 통해 고품질 단결정 SiC 잉곳 성장 기술을 시연
뉴욕주 센트럴 이슬립, 2026년 4월 21일 –( BUSINESS WIRE )–CVD Equipment Corporation(NASDAQ: CVV )은 오늘 스토니브룩대학교(SBU)에서 자사의 CVDE 물리적 증기 수송(PVT) 시스템을 이용하여 성장시킨 단결정 탄화규소(SiC) 잉곳의 성공적인 성장을 발표했으며, SBU는 이 잉곳의 특성을 분석하여 새로운 반도체 연구 센터인 ” onsemi 광대역 밴드갭 재료 연구 센터 “를 지원하고 있습니다.
SBU에서 분석한 결과, 해당 SiC 잉곳은 다형체가 없고 결함 밀도가 낮은 4H 결정 구조를 갖는 것으로 확인되었습니다. 이러한 성과는 차세대 반도체 제조 및 고성능 소재에 의존하는 신흥 시장을 위한 장비 공급업체로서 CVDE의 입지를 강화합니다.
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CVD Equipment Corporation(NASDAQ:CVV) 주식소개 CVD 이큅먼트
CVD Equipment Corporation은 자회사와 함께 미국과 국제적으로 소재와 코팅을 개발하고 제조하는 장비를 설계, 개발, 제조 및 판매합니다. CVD Equipment, Stainless Design Concepts, CVD Materials의 세 부문을 통해 운영됩니다. CVD Equipment 부문은 FirstNano 브랜드로 화학 기상 증착, 물리적 기상 수송 및 열 공정 장비를 제공하며, 고전력 전자 제품, 가스터빈 제트 엔진용 항공 우주 첨단 소재, 배터리에 사용되는 나노소재, 반도체, LED, 탄소 나노튜브, 나노와이어, 태양 전지 및 기타 산업 및 연구 응용 분야와 같은 다양한 시장에 제공합니다. Stainless Design Concepts 부문은 가스 실린더 보관 캐비닛, 맞춤형 가스 및 화학 물질 공급 시스템, 가스 및 액체 밸브 매니폴드 상자, 반도체 제조 공정, 항공 우주, 태양 전지, LED, 탄소 나노튜브, 나노와이어 및 산업 응용 분야를 위한 가스 격리 상자를 포함한 초고순도 가스 및 화학 물질 공급 제어 시스템을 제공합니다. CVD 재료 부문은 MesoPlasma 인쇄 서비스 및 히터, 안테나, 센서로 구성된 제품과 같은 첨단 소재 및 코팅과 관련된 제품을 항공우주, 위성, 발전, 방위 및 기타 시장에 제공합니다.
주가전망
CVD Equipment Co. (NASDAQ:CVV)는 11월 12일 화요일에 분기별 수익 데이터를 발표했습니다. 이 산업 제품 회사는 분기에 대해 ($0.02) EPS를 보고했습니다. 이 산업 제품 회사는 분기 동안 $571만 달러를 벌었습니다. CVD Equipment는 17.10%의 마이너스 12개월 자본 수익률과 18.26%의 마이너스 순이익률을 기록했습니다.